低压真空渗碳炉是专门用来做真空渗碳淬火工艺的炉子，它不同于传统真空炉将零件装炉后，抽到高真空，然后再加热到渗碳温度，通入少量的渗碳气体进行渗碳，通常渗碳时在5-20毫巴的低真空下进行，因此称其为低压真空渗碳工艺，渗碳结束后进行淬火得到马氏体为主的组织。传统真空炉是在无气体的真空环境下工作，将零件进行加热、保温和冷却，来实现热处理工艺，一般可做无氧化的淬火、退火等工艺。真空度相对较高。低压真空渗碳炉是在低压真空状态下，通过多次强渗+扩散过程，以达到零件渗层深度要求的工艺过程，其控制方法为“饱和值调整法”。即在强渗期使奥氏体固溶碳饱和，在扩散期固溶的碳向内部扩散到目标的要求值，通过调整渗碳、扩散时间比，达到控制表面碳浓度和渗碳层深度的目的。其优点是：
1.无内氧化，能显著提高零件表面疲劳性能。
2.处理后畸变小。
3.计算机控制，渗碳精度高。
4.处理后产品表面呈光亮状，可不经清洗、喷丸工序。
2023-06-30
2023-06-16
2023-06-02
2023-05-26
2023-05-19
